第604章 28nm浸没式DUV光刻机原型机 (第1/2页)
魔都，张江高科技园区，上微电子总部。
在最高级别的超净实验室内，贺建国总工正带着十几名核心研发人员，围绕着一台刚刚组装完毕、体积庞大得如同两层楼高的小型工厂的机器，进行着紧张的最后整机联调。
这，就是代表着华国目前半导体工业制造最高水平的——28nm浸没式DUV光刻机第一台原型机。
相比于之前稳定量产的65nm干式光刻机，这台机器的内部结构发生了翻天覆地的变化。
贺建国指着大屏幕上不断跳动的实时监控数据，声音因为连续熬夜而有些沙哑，但透着难以掩饰的激动。
“各单位注意汇报最新参数！”
“浸液系统循环稳定，水体折射率保持在1.44绝对值，没有任何微气泡产生！光学物镜波前像差控制在设计容差范围内！”负责长天光学浸没式物镜系统（NA 1.35）的技术员大声汇报道。
“天卓精密第二代双工件台，硅片定位精度稳定在纳米级别，台面同步运动无明显抖动误差！”
“天虹激光193nm准分子光源，激光脉冲能量输出稳定，功率死死地钉在90瓦，完全满足28nm制程多重曝光的极限能量需求！”
听完这三大核心部件的联调数据，贺建国长长地舒了一口气。
这台28nm光刻机之所以能如此迅速地成型，最大的底气，就来自于天宇集团这几年近乎疯狂的底层投资。
这台机器的三大核心部件——物镜系统、双工件台、准分子光源，全部是长天光学、天卓精密和天虹激光在吸收了65nm研发经验后，砸出海量研发经费迭代出来的最新版本。
“立刻启动最后一项关键验证！”贺建国下达了最终指令，“进行28nm极限线宽的晶圆多重曝光均匀性测试！只要这项数据达标，咱们这台国产28nm浸没式光刻机，就可以正式宣告进入工程样机交付的最后倒计时！”
实验室内的气氛瞬间紧张到了极点，所有人都死死地盯着屏幕，等待着最后曝光结果的显现。
……
郑州，天宇集团总部。
陈立峰刚刚从魔都飞回来，连轴转的行程让他满脸疲惫，但精神却十分亢奋。
他手里拿着一份绝密文件，直接敲开了许晨办公室的大门。
“许总，大好消息！魔都那边贺总工传来确切情报，28nm光刻机原型的多重曝光测试通过了！”陈立峰激动地将报告递到许晨面前，“现在距离工程样机下线，只差最后的微调了！”
许晨接过报告，看着上面那些代表着胜利的数据，嘴角终于露出了满意的笑容。
他知道，这台光刻机能这么快进入验证阶段，简直是一个奇迹。
原本在半导体行业的普遍认知中，从65nm跨越到28nm浸没式，中间横亘着无数技术壁垒。
阿斯麦当年走这条路，花了整整五年多的时间，烧掉了几十亿欧元。
而华国，满打满算，只用了不到两年的时间！
陈立峰平复了一下激动的心情，开始进行汇报。
“许总，这次28nm能这么快出成果。说实话，咱们天宇在底层砸的钱只是点火的引子，真正让这台机器飞起来的，是国家政策那股史无前例的超
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